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金属(铜、银)/硅纳米孔柱阵列复合体系的制备及电学特性研究  
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【作者】 柴花斗;
【导师】 李新建;
【学位授予单位】 郑州大学;
【学科专业名称】 材料物理与化学
【学位年度】 2006
【论文级别】 硕士
【网络出版投稿人】 郑州大学
【网络出版投稿时间】 2006-10-10
【关键词】 硅纳米孔柱阵列(Si-NPA); 浸渍法; 热退火; I-V曲线;
【英文关键词】 Si-NPA (Silicon Nanoporous Pillar Array); immersion plating; thermal annealing; I-V curve;
【中文摘要】 随着纳米科学与技术的发展,金属/硅复合纳米体系引起了人们的很大关注,并有望在未来硅基纳米器件的制作中扮演重要的角色。研究表明,金属在多孔硅(Porous Silicon, PS)上的浸渍沉积在一定程度上依赖于其表面形貌和表面化学状况,这表明通过表面处理有可能实现金属的位置选择性沉积,并制备出周期性、图案化的金属/PS结构。本文制备了一种新型的纳米硅模板——硅纳米孔柱阵列(Silicon Nanoporous Pillar Array, Si-NPA),利用其表面活性通过浸渍法合成了铜、银/硅纳米孔柱阵列(Copper、Silver/Silicon Nanoporous Pillar Array, Cu、Ag/Si-NPA)复合体系,并研究了其热电特性。 具体的研究内容如下: 1.银离子在具有不同氧化状况的Si-NPA表面呈现位置选择性沉积。分别在新鲜、清洗、老化的衬底上浸渍沉积得到了具有不同图案化结构的Ag/Si-NPA。在新鲜衬底上由于HF酸的存在和空间几何构型的影响,形成了许多植根于柱顶的树枝状的银。对于清洗后的衬底,在柱顶形成了小尺寸银颗粒...
【英文摘要】 With the development of nanoscience and nanotechnology, metal/silicon composite nanosystems have aroused much attention and might play key roles in fabricating silicon-based nanodevice in future. Researches have indicated that the process of the immersion plating of metals on PS highly depends upon the morphology and chemical status of PS surface, which implies that site-selective deposition of metals might be realized through surface treatment. This would be essential for the fabrication of metal/PS with p...
【更新日期】 2006-12-16

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导师:李新建    导师单位:郑州大学    学位授予单位:郑州大学
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