| 
  中国优秀硕士学位论文全文数据库
  关闭
六方相GaN的MOCVD外延生长  
   在线阅读 整本下载 分章下载 分页下载本系统暂不支持迅雷或FlashGet等下载工具
【作者】 陈俊;
【导师】 郑文琛;
【学位授予单位】 四川大学;
【学科专业名称】 凝聚态物理
【学位年度】 2003
【论文级别】 硕士
【网络出版投稿人】 四川大学
【网络出版投稿时间】 2003-10-06
【中文摘要】 GaN基Ⅲ族氮化物由于其在从紫外到可见波段高效光电器件制作中的成功应用而成为半导体材料研究领域的前沿课题之一。本文利用配有近垂直入射激光反射在位监测的卧式MOCVD在c面蓝宝石衬底上生长六方相的GaN薄膜,围绕提高本征GaN外延层质量的目的,开展了具体如下的工作: (1)在MOCVD设备上搭建了一套单波长近垂直入射激光反射在位监测系统。结合具体的生长过程,对在位监测曲线进行合理的解释。通过对在位监测曲线的分析,确定GaN生长速率以及外延层的厚度,并利用监测曲线实时标定缓冲层的厚度。对在位监测曲线进行量化分析,得到高温生长时GaN折射率,及GaN生长过程表面粗糙度的变化,与AFM测试的结果比较吻合。 (2)以在位监测为辅助工具,研究了蓝宝石衬底氮化的影响。在大源流量流下,研究了GaN缓冲层各生长参数的影响规律,发现对缓冲层生长影响显著的条件有生长Ⅴ/Ⅲ比、生长温度、退火时的氨气流量。而缓冲层生长压力、退火压力及退火时间的影响相对较小。在小反应源气流下,发现对缓冲层生长影响显著的条件包括生长Ⅴ/Ⅲ比,生长压力,缓冲层厚度,退火时氨...
【英文摘要】 Ⅲ nitrides have become one of the forefront research topics in semiconductor materials fields due to their successful application to fabricating of highly efficient optoelectronic devices operating in the ultraviolet and visible spectral regions. In this thesis, we grow hexagonal GaN on c-plane sapphire substrates in a horizontal MOCVD reactor equipped with an in situ normal incidence reflectance monitoring, and the focus has been turned to improve the quality of unintentionally doped GaN epilay...

【相同导师文献】

导师:郑文琛    导师单位:四川大学    学位授予单位:四川大学
[1] 唐晟.~6S(3d~5)离子在具有反演中心的晶体中EPR谱的电场效应研究[D]. 四川大学,2004
[2] 范应娟.3d~1(Ti~(3+)、V~(4+))离子在八面体四角晶场中EPR参量的理论研究[D]. 四川大学,2005
[3] 梅杨.3d~1离子在四面体斜方和3d~9离子在八面体斜方晶场中的EPR参量的理论研究[D]. 四川大学,2006
[4] 周青.3d~1/3d~9离子在斜方晶位中自旋哈密顿参量的理论研究[D]. 四川大学,2006
[5] 陈俊.六方相GaN的MOCVD外延生长[D]. 四川大学,2003
[6] 邬劭轶.晶体中3d~7(Co~(2+))和4f~(11)(Er~(3+))离子最低Kramers双重态的自旋哈密顿参量的理论研究[D]. 四川大学,2002
[7] 董会宁.晶体中稀土Kramers离子自旋哈密顿参量的理论研究[D]. 四川大学,2003
[8] 吴晓轩.晶体中3d~3离子自旋哈密顿参量双机制模型理论研究[D]. 四川大学,2006

xxx
【读者推荐文章】中国期刊全文数据库 中国重要报纸全文数据库 中国博士学位论文全文数据库 中国优秀硕士学位论文全文数据库 中国重要会议论文全文数据库
【相似文献】
中国期刊全文数据库
中国优秀硕士学位论文全文数据库
中国博士学位论文全文数据库
中国重要会议论文全文数据库
中国重要报纸全文数据库
中国学术期刊网络出版总库
点击下列相关研究机构和相关文献作者,可以直接查到这些机构和作者被《中国知识资源总库》收录的其它文献,使您全面了解该机构和该作者的研究动态和历史。
【文献分类导航】从导航的最底层可以看到与本文研究领域相同的文献,从上层导航可以浏览更多相关领域的文献。

工业技术
  无线电电子学、电信技术
   半导体技术
    一般性问题
     半导体器件制造工艺及设备
  
 
  CNKI系列数据库编辑出版及版权所有:中国学术期刊(光盘版)电子杂志社
中国知网技术服务及网站系统软件版权所有:清华同方知网(北京)技术有限公司
其它数据库版权所有:各数据库编辑出版单位(见各库版权信息)
京ICP证040431号    互联网出版许可证 新出网证(京)字008号