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过冷度对重掺B直拉Si单晶中小角晶界的影响  
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【英文篇名】 Influence of Undercooling on Low-Angle Grain Boundary in Heavily Boron Doped Czochralski Silicon
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【作者】 王飞尧; 孙新利; 饶伟星; 何国君; 王伟棱;
【英文作者】 Wang Feiyao; Sun Xinli; Rao Weixing; He Guojun; Wang Weileng(Hangzhou Haina Semiconductor Co.; Ltd.; Hangzhou 310053; China);
【作者单位】 杭州海纳半导体有限公司;
【文献出处】 半导体技术 , Semiconductor Technology, 编辑部邮箱 2011年 05期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 小角晶界; 过冷度; 硅单晶; 重掺硼; 掺杂浓度;
【英文关键词】 low-angle grain boundary; undercooling; czochralski silicon; heavily boron doped; doping concentration;
【摘要】 小角晶界是Si单晶中的严重缺陷,生产中需要极力避免。对于重掺B直拉<111>Si单晶,当掺杂浓度接近固溶度时就容易产生小角晶界。对直拉Si单晶中小角晶界产生的原因进行梳理及深入分析,在理论上提出减少过冷度来减少小角晶界缺陷的方法。分别采用增加加热器功率减小过冷度及降低埚位减少过冷度的两种工艺方法,成功实现生长无小角晶界重掺B<111>Si单晶。通过生产中实际晶体生长情况对比分析发现,低埚位生长无小角晶界的重掺B直拉<111>Si单晶工艺更具备生产优势。
【英文摘要】 Low-angle grain boundary is a serious crystal defect and must be avioded.Low-angle grain boundary was easily happened in heavily boron doped <111> czochralski silicon,when the doping concentration near the solid solubility.Influencing factors of low-angle grain boundary were analyzed base on the formation mechanism.The methods of undercooling reduction was proposed from the theoretical analysis.The undercooling was changed by increasing of heating power and reduceing the crucible position.The heavily boron ...
【更新日期】 2011-06-17
【分类号】 TN304.053
【正文快照】 0引言近年来,随着超大规模集成电路(ULSI)的发展,作为外延衬底的大直径直拉重掺Si单晶在微处理器和高附加值逻辑器件等先进集成电路制造中得到了广泛的应用[1],并能够解决抛光Si片所不能解决的电路闩锁问题、软失效、动态存储时间短等问题。同时小尺寸的重掺直拉Si单晶也广泛应

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