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X射线衍射V_2O_5在介孔二氧化硅上的分散研究  
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【英文篇名】 Study of dispersion of V_2O_5 onto hexagonal mesoporous silicas by technology of impregnation method X-ray diffraction
【下载频次】 ★★★★
【作者】 侯秀红;
【英文作者】 HOU Xiu-hong(Shanghai Research Institute of Chemical Industry; Shanghai 200062; China);
【作者单位】 上海化工研究院新技术开发室 上海;
【文献出处】 佛山科学技术学院学报(自然科学版) , Journal of Foshan University(Natural Science Edition), 编辑部邮箱 2007年 06期  
期刊荣誉:ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 介孔二氧化硅; V2O5; 浸渍法; 单层分散; 掺入骨架;
【英文关键词】 mesoporous silicas; V2O5; impregnation method; monolayer; incorporation;
【摘要】 采用X射线衍射技术(XRD)考察了金属氧化物V2O5在介孔二氧化硅分子筛上的分散,研究结果表明应用浸渍法将V2O5浸渍于介孔二氧化硅分子筛中,在低于V2O5熔点的适当温度下焙烧后,与未浸渍V2O5样品相比,晶胞参数a值明显增大,说明钒离子掺入了介孔二氧化硅分子筛的骨架中;在一定范围内随着V2O5加入量的增加其在介孔二氧化硅的表面的分散量也在增加,而V2O5残余晶相量远远低于加入的量,说明V2O5掺入介孔二氧化硅分子筛骨架的同时可在介孔二氧化硅的表面成单层分散。
【英文摘要】 The dispersion of V2O5 onto hexagonal mesoporous silicas was investigated by means of X-ray diffraction(XRD).The mesoporous silicas were impregnated by vion solution and calcined in air at 400 °C,the investigation indicated not only vanadium in samples prepared by impregnation method was incorporated into the famework of mesoporous silicas,but also some dispersed spontaneously onto the surface of mesoporous silicas,and formed a monolayer if total amount of V2O5 increased.
【基金】 上海市科委纳米专项基金(0112Nm032)
【更新日期】 2008-04-28
【分类号】 TB383.4
【正文快照】 金属氧化物的自发分散现象普遍存在于担载型氧化物催化剂体系中。金属氧化物与担载型氧化物混合方式有机械混合法、浸渍法等。可用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)等手段来研究机械混合法制备的氧化物催化剂的自发分散性能[1]。近年来发现的具有较高比表面、规则介孔分子

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