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Alq_3厚度以及沉积速率对OLED性能的影响  
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【英文篇名】 Effect of Thickness and Deposit Speed on the Performance of OLED
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【作者】 牟强; 张麦丽; 张方辉;
【英文作者】 MU Qiang; ZHANG Mai-li; ZHANG Fang-hui(School of Electrical and Electronic Engineering; Shaanxi University of Science and Technology; Xianyang 712081; China; );
【作者单位】 陕西科技大学电气与电子工程学院; 陕西科技大学电气与电子工程学院 陕西咸阳; 陕西咸阳;
【文献出处】 液晶与显示 , Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 编辑部邮箱 2005年 06期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 OLED; Alq_3; 厚度; 沉积速率;
【英文关键词】 OLED; Alq_3; thickness; deposit speed;
【摘要】 以ITO为透明电极,NPB为空穴传输层,Alq_3为发光层,制备出ITO/NPB/Alq_3/LiF/Al结构的有机电致发光显示器。通过比较Alq_3发光层厚度以及沉积速率对OLED的亮度、发光效率的影响,确定了Alq_3层的厚度为65nm,沉积速率为0.3nm/s,得到起亮电压为3.01V、发光亮度为12800cd/m2、发光效率达到4.421cd/A的器件,并对其影响因素进行了分析。
【英文摘要】 Organic light-emitting device (OLED) based on Alq_3 emitting layer, ITO transparent anode and NPB hole transport layer were fabricated. The structure was ITO/NPB/Alq_3/LiF/Al. Optimized thickness 65 nm and deposit speed 0.3 nm/s were confirmed through the comparison of brightness and luminescent efficiency with different thickness and deposit speed of Alq_3. The threshold voltage 3.01 V,brightness 12 800 cd/m~2,efficiency 4.421 cd/A were achieved. In addition, influence factors were (analy)zed.
【基金】 国家自然科学基金资助项目(No·20476054); 陕西省教育厅专项研究基金资助项目(No·03JK1610)
【更新日期】 2006-02-27
【分类号】 TN312.8
【正文快照】 1引言1987年,美国柯达公司C.W.Tang发表的有机小分子薄膜双层结构电致发光器件,掀起了有机电致发光器件(OLED)研究的热潮[1]。OLED作为一种新型电致发光器件,以其优越的性能在显示器行业脱颖而出。这种器件结构简单、成本低、易于大面积生产,抗震性能好;主动发光,视角范围大,响

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