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采用热丝CVD法在多种基材上沉积金刚石薄膜

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【英文篇名】	Diamond Films Deposited on Various Substrates by Means of Hot Filament Vapor Deposition
【下载频次】	★★★☆
【作者】	苏革; 黄荣芳; 闻立时; 成会明;
【英文作者】	Su Ge et al;
【作者单位】	中国科学院金属研究所;
【文献出处】	表面技术 , Surface Technology, 编辑部邮箱 1998年 01期期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊
【中文关键词】	热丝法; 沉积; 金刚石薄膜基材;
【英文关键词】	Hot filament chemical vapor deposition Diamond film Substrate;
【摘要】	热丝法是一种比较成熟的气相合成金刚石膜的方法,与其它方法比较,热丝法在工艺参数对金刚石薄膜的结构和质量的影响、界面的形成、薄膜生长各阶段的特征等方面的基础研究及各种应用研究上有其独特的优越性.木文采用热丝法在SiC晶须增强Si_3N_4.陶瓷、AIN陶瓷、Si单晶片、Cu片、Mo片等基材上沉积出金刚石薄膜,并通过TEM和SEM进行观察,分析和研究了影响金刚石薄膜沉积的因素.
【英文摘要】	Diamond films have been deposited on various substrates by means of hot filament chemical vapor deposition (CVD). The characteristics of diamond films were observed and studied by means of TEM and SEM.
【基金】	国家自然科学基金资助项目
【分类号】	TB43
【正文快照】	二引言 MO(O是做热沉基片的理想材料,如果在其上沉积一层几微米至几十微米厚的金刚石薄膜,散热速率将一个世纪以来,金刚石薄膜的出色特性一直吸引着大幅度提高旧单晶是目前广泛使用的半导体材料,随各国材料科学工作者的注怠力,从80年代人工合成金着电子工业的发展,集成功

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