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纳米硅薄膜的研制  
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【作者】 何宇亮; 刘湘娜; 王志超; 程光煦; 王路春; 余是东;
【作者单位】 南京大学物理系; 南京大学固体微结构实验室; 南京大学固体微结构实验室 南京;
【文献出处】 中国科学(A辑 数学 物理学 天文学 技术科学) , Science in China,Ser.A, 编辑部邮箱 1992年 09期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 纳米硅; 非晶硅; 微晶硅;
【摘要】 使用大量氢稀释硅烷,严格控制PECVD系统中的工艺参数,分别沉积出a-Si:H,nc-Si:H 以及μc-Si:H薄膜.使用HREM,Raman及X射线谱,探讨了nc-Si:H膜的结构特征.结果表明,它已符合国际上对于固体纳米材料的认识.由于结构上的新颖性,使它具有一系列鲜为人知的物性.
【基金】 国家自然科学基金
【正文快照】 一日l会, 、JI‘;二 自1984年Gleite:及其同事们连续发表了几篇关于纳米尺寸固休材料的论文后t11,这一新领域就迅速发展起来.最初较集中在陶瓷、高分子及合金块状材料,随后又制备出薄膜状纳米材料和磁性纳米材料〔2].在半导体方面,1986年vep若ek小组首员戈表了有关纳米硅薄膜(l

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