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氢氟酸电解腐蚀硅制备的量子线阵的光致发光  
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【英文篇名】 Photoluminescence of Silicon Quantum Wire Array Fabricated by Electrolytic Etching
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【作者】 张丽珠; 段家怟; 张伯蕊; 金鹰; 秦国刚;
【英文作者】 Zhang Lizhu/Department of Physics; Peking University; Beijing; 100871Duan Jiaqi/Department of Physics; 100871Zhang Borui/Department of Physics; 100871Jin Ying/Department of Physics; 100871Qin Guogang/Department of Physics; 100871;
【作者单位】 北京大学物理系; 北京大学物理系 北京;
【文献出处】 半导体学报 , Chinese Journal of Semiconductors, 编辑部邮箱 1992年 03期  
期刊荣誉:ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【摘要】 在氢氟酸溶液中电解腐蚀作为阳极的单晶硅,制备了硅量子线阵.根据其光致发光谱估算了量子线横截面平均边长为2.4—3.1纳米.研究了光致发光带的峰位对单晶硅电阻率,电解液成分,电解电流密度及电解时间等量的依赖关系.
【英文摘要】 Silicon quantum wire array has been fabricated by electrolytic etching single crystallinesilicon which is an anode in hydrofluoric acid solution. According to the photoluminescencespectra, the average diameter of quantum wire was estimated from 2.4 to 3.1 nanometers. Wehave studied the dependence of the energy position of photoluminescence band on the resisti-vity of single crystal, the compoent of electrolyte, electrolytic current density and electrolytictime.
【正文快照】 引言 自从19,6年uhlir“,及1958年Turner‘,,最先报道用浓氢氟酸作为电解液将置于阳极的单晶硅腐蚀成多孔硅至今已有三十多年历史.由于多孔硅在微电子学方面有应用而被认真研究〔3一‘].最近canhamm利用光致发光论证了在适当条件下由电解腐蚀所得的多孔硅实际是直径为几个纳米?

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