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从光固化聚硅氮烷到微/纳米图形结构     在线阅读 整本下载 分章下载 分页下载 本系统暂不支持迅雷或FlashGet等下载工具
【英文题名】 Micro/Nano-Patterned Structures from Photocurable Polysilazanes
【作者】 方庆玲;
【导师】 李效东; 金东杓;
【学位授予单位】 国防科学技术大学;
【学科专业名称】 材料科学与工程
【学位年度】 2011
【论文级别】 博士
【网络出版投稿人】 国防科学技术大学
【网络出版投稿时间】 2012-05-21
【关键词】 微/纳米结构; 甲基丙烯酸酯化的聚乙烯基聚硅氮烷; 甲基丙烯酸酯化的全氢聚硅氮烷; 碳纳米管; silicate陶瓷; 水解;
【英文关键词】 Micro/nano- structure; methacrylated polyvinylsilazane; methacrylated perhydro- polysilazane; carbon nanotubes; silicate ceramic; hydrolysis;
【中文摘要】 作为微机电系统(MEMS)、集成电路(IC)和芯片实验室(LOC)等领域的基本组件,微/纳米图形结构在现代工业社会中处于一个举足轻重的地位。本文合成了可光固化的聚硅氮烷先驱体材料,使之能利用各种先进光学成型技术制备出微/纳米图形结构,并结合硅表面加工、微流控器件、压印技术等应用背景,通过进一步的无机化处理,采用更快捷的路径制备出符合不同领域需求的高性能微/纳米图形结构。 首先,本文用光敏分子ICMA分别和低分子量的聚乙烯基硅氮烷(PVSZ)和全氢聚硅氮烷(PHPS)反应,获得具有光固化性能的甲基丙烯酸酯化的聚硅氮烷,对应的产物分别记为MPVSZ和MPHPS。经FT-IR,1H-NMR,13C-NMR等手段表征了产物和中间体的化学结构。 基于MPVSZ,本文首次通过光刻和水解转化路径制备了一种新型的高选择性硅刻蚀掩膜。以甲苯为溶剂,混合光引发剂Irgacure 369和热引发剂Luperox 231配制不同浓度的MPVSZ光固化体系,在6英寸的硅片基底上可获得的最大的涂层厚度~ 6μm。以50 wt%的MPVSZ光固化体系为原料,通过旋涂获得平整涂层,然后经过前烘、I-line光刻、IPA显影、...
【英文摘要】 As the basic blocks in micro-electromechanical systems(MEMS), integrated circuit(IC) and lab on a chip(LOC) fields, micro/nano- patterned structures play a key role in the modern industry society. Towards the application in silicon patterning, microfluidics devices, imprinting lithography etc., this dissertation fabricated micro/nano- structures with good properties from as-synthesized photocurable polysilazane precursors by novel rapid routes using optics lithography techniques and hydrolysis treatment. ...
【更新日期】 2012-06-12

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