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TiO_2薄膜的磁控溅射制备及其光催化性能研究  
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【英文题名】 Study about Photocatalytic Ability of TiO_2 Thin Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering Method
【作者】 武秀芳;
【导师】 常铁军;
【学位授予单位】 哈尔滨工程大学;
【学科专业名称】 材料学
【学位年度】 2006
【论文级别】 硕士
【网络出版投稿人】 哈尔滨工程大学
【网络出版投稿时间】 2007-08-21
【关键词】 TiO_2薄膜; 直流反应磁控溅射; 光催化降解; 罗丹明B; 正交试验;
【英文关键词】 TiO_2 film; DC reactive magnetron sputtering; rhodamine B; photocatalytic degradation; orthogonal experiment;
【中文摘要】 本文采用直流反应磁控溅射法制备了TiO_2光催化活性薄膜，以其在紫外光下对罗丹明B的降解率作为活性评价标准，并通过正交试验法优化了溅射工艺，根据优化结果，制定了不同溅射气压、不同靶基距、不同基体温度3个系列的薄膜，然后分别对其进行XRD、AFM、膜厚以及光催化性能表征。分析了溅射气压、靶基距、基体温度，薄膜的厚度、晶型、粒径、光催化性能几者间的因果关系；另外，分别讨论了光催化降解前的预吸附时间、降解液的初始浓度及初始pH值对薄膜光催化降解率的影响情况。 研究结果表明，最优参数组合为溅射功率155W，靶基距85mm，溅射气压0.4Pa，氧氩比1：10，基体温度550℃，它们对TiO_2薄膜光催化降解率影响的显著性次序是溅射气压＞靶基距＞氧氩比＞基体温度＞溅射功率； 溅射气压、靶基距、基体温度对薄膜厚度、晶型、粒径都有很大的影响。薄膜较厚、粒径较小、晶型以锐钛矿为主，这三者均能促使薄膜降解率提高，所以薄膜最终的降解率是由它们三者之间的平衡所决定； 降解前预吸附1.5h便可使罗丹明B在TiO_2薄膜表面吸附完全；在罗丹...
【英文摘要】 The photocatalytic TiO_2 thin films in this thesis were prepared by DC reactive magnetron sputtering technique. Photocatalytic activity of them were evaluated by photocatalytic degradation rate of rhodamine B under the radiation of UV. Technological parameters was optimized by orthogonal experiment.Three series films of sputtering pressure,the distance of the substrate-to-target and substrate temperature were prepared . And then they were given analysis about XRD ,AFM, film thickness and photo...
【更新日期】 2007-09-21

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