直流脉冲磁控溅射法制备SiN_x/SiN_xO_y薄膜及其性能研究   在线阅读 整本下载 分章下载 分页下载 本系统暂不支持迅雷或FlashGet等下载工具
【英文题名】
Research on Preparation and Properties of SiN_x/SiN_xO_y Films by Direct Current Pulse Magnetron Sputtering
【作者】
张树旺 ;
【导师】
柴卫平 ;
【学位授予单位】
大连交通大学 ;
【学科专业名称】
材料学
【学位年度】
2008
【论文级别】
硕士
【网络出版投稿人】
大连交通大学
【网络出版投稿时间】
2009-04-15
【关键词】
SiN_x薄膜 ;
脉冲磁控溅射 ;
柔性OLED ;
【英文关键词】
SiNx film ;
Pluse Magnetron Sputtering ;
Flexible OLED ;
【中文摘要】
柔性OLED被认为是最具发展前景的下一代显示技术之一,但由于H2O、O2等有害气体的侵蚀,使柔性OLED器件很难达到商用显示器件1×104h的最低使用寿命标准,在柔性衬底上制备保护层是阻隔H2O、O2等有害气体对器件的侵蚀,延长器件使用寿命的有效方法。而高密度的SiNx和SiNxOy薄膜对气体具有良好的阻隔性能。
本论文利用直流脉冲磁控溅射方法制备SiNx及SiNxOy薄膜,探讨反应压强、气体流量配比等沉积参数对SiNx及SiNxOy薄膜结构、性能的影响。研究结果表明:
1、在N2/Ar比例不变的情况下,随着反应压强的增加,所制备SiNx薄膜中Si-N键含量逐渐下降,而Si-O键的含量逐渐增加,当反应压强大于1.0Pa后,Si-O键已经成为薄膜的主要结构;
2、在反应压强不变的情况下,随着N2/Ar比例的增加,所制备SiNx薄膜中Si-N键含量逐渐下降,而Si-O键的含量逐渐增加,当N2/Ar比例大于0.6之后,Si-O键已经成为薄膜的主要结构;
3、在低反应压力及低N2/Ar比例条件下,由于SiNx薄膜中Si-N键含量较高,薄膜具有较好的阻透性能和疏水性能...
【英文摘要】
Flexible OLED was considered to be one of the most promising display technologies of next generation. But because of the erosion of harmful gases such as H2O and O2, its lifetime can not obtain the minimal lifetime standard of commercial display—1×104h. It is an effective method to prepare protective layer on flexible substrate to prolong its lifetime. High density SiNx and SiNxOy film have excellent barrier property to gases.
In this article, SiNx and SiNxOy film were prepared using Direct Curr...
【更新日期】
2009-04-24
【相同导师文献】
导师:柴卫平 导师单位:大连交通大学 学位授予单位:大连交通大学
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