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CVD金刚石薄膜在光电器件中的应用研究     在线阅读　整本下载　分章下载　分页下载 本系统暂不支持迅雷或FlashGet等下载工具
【英文题名】 The Research on Application of CVD Diamond Films in Photoelectron Devices
【作者】 刘健敏;
【导师】 夏义本;
【学位授予单位】 上海大学;
【学科专业名称】 材料学
【学位年度】 2007
【论文级别】 博士
【网络出版投稿人】 上海大学
【网络出版投稿时间】 2008-03-05
【关键词】 CVD金刚石薄膜; 紫外探测器; ZnO薄膜; X射线光刻掩膜材料;
【英文关键词】 CVD diamond films; ultraviolet detector; ZnO films; X-ray mask matetrial;
【中文摘要】 CVD金刚石薄膜具有优异的电学、光学、热学、机械性能和化学稳定性，能够耐高温、耐腐蚀和抗强辐射，成为当前微电子器件在苛刻环境下工作的首选材料。CVD金刚石薄膜的制备及其应用已经成为国际前沿课题。本文主要研究了HFCVD金刚石薄膜的制备及其在光电器件方面的应用。 首先，采用热丝辅助化学气相沉积(HFCVD)法，通过改变生长参数，获得了不同晶粒尺寸以及晶粒尺寸相近的不同取向的金刚石薄膜。通过微电子光刻工艺成功制备了不同晶粒取向、不同晶粒尺寸的金刚石薄膜紫外光探测器。研究表明，探测器性能与金刚石薄膜晶粒大小密切相关，随着晶粒尺寸的增加，光电流／暗电流之比以及净光电流均提高。在晶粒尺寸相近的情况下，(100)取向的金刚石薄膜探测器的光谱响应特性优于其它取向的金刚石薄膜探测器。同时，提出对器件采用甲烷和空气后处理工艺，明显提高了紫外光探测器的光谱响应特性。薄膜的取向性、晶粒尺寸和后处理工艺对金刚石薄膜紫外光探测器的性能有显著的影响。认为采用大晶粒、高度(100)取向的薄膜以及合适的后处理工艺有利于提高金刚石薄膜紫外光探测器的性能。 其次，制备了自支撑金刚石薄膜，研制出ZnO／...
【英文摘要】 The unique optical, electrical, thermal, mechanical properties and outstanding chemical stability of diamond film make it an ideal material for micro-electronics devices in future especially at high temperature, high radiation and corrosion environments. It has been the international interesting subjects that the fabrication of CVD diamond films and their applications. In this thesis, the fabrication of HFCVD diamond films and their applications in photoelectron devices are studied. Firstly,...
【更新日期】 2008-04-03

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导师：夏义本    导师单位：上海大学    学位授予单位：上海大学
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