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AFM原位数字双曝光微纳散斑变形检测技术研究

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【作者】 李喜德杨燕

【机构】 清华大学工程力学系FML

【摘要】 <正> 双曝光散斑照相术,或称单光束散斑干涉是目前光学无损检测技术中重要的检测技术,已被广泛地应用于理论研究和工程应用等方面。在以往的双曝光散斑检测技术中,变形场的检测灵敏度在激光散斑检测时由成像系统F数、放大倍数和照明光波长确定,而在白光散斑检测中则受限于成像系统的空间分辨本领。对于通常的散斑检测,无论是激光散斑还是白光散斑其位移检测灵敏度在微

【基金】 国家自然科学基金(10372049、10072031、10232030);国家重点基础研究发展计划(2004CB619304);清华大学强度开放基金资助项目
  • 【会议录名称】 中国力学学会学术大会’2005论文摘要集(上)
  • 【会议名称】中国力学学会学术大会’2005
  • 【会议时间】2005-08
  • 【会议地点】中国北京
  • 【分类号】O348.1
  • 【主办单位】中国力学学会、北京工业大学
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