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氮化硅薄膜制备方法现状综述

Progress and Preparation Methods of Silicon Nitride Thin Film

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【Author】 Wang Zhigang1 Zhang Weiru2 Li Ling3 Wang Chonghai3 (1Dept.of Material Science and Engineering, Shandong University of Technology, Zibo 255049;2Beijing Synthetic Crystals Co.,Ltd,Beijing 100018; 3Shandong Research & Design Iinstitrute of Industrial Ceramics, Zibo 255031)

【机构】山东理工大学材料科学与工程学院；北京中材人工晶体有限公司；山东工业陶瓷研究设计院；山东工业陶瓷研究设计院淄博255049；北京100018；淄博255031；

【摘要】氮化硅薄膜是一种多功能材料,在许多领域有着广泛的应用。本文系统综述氮化硅薄膜的性质、结构、应用及各种制备方法,并对今后的研究作了展望。更多还原

【Abstract】 As a kind of mufti- functional materials, silicon nitride thin film is widely used in many fields. In the paper, the properties, structure, applications and preparation methods of silicon nitrides films were overviewed. The research is also be looked into the diatance.更多还原

【关键词】氮化硅薄膜；制备方法；化学气相沉积；
【Key words】 silicon nitride thin film； preparation method； chemical vapour deposition；

【文献出处】现代技术陶瓷 ,Advanced Ceramics , 编辑部邮箱 ,2007年02期

【分类号】TQ174.7
【被引频次】31
【下载频次】1795

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