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脉冲激光辐照TiO2/SiO2薄膜热效应研究

Thermal effect of TiO2/SiO2 film irradiated by pulse laser

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【作者】 周维军袁永华桂元珍刘海淘

【Author】 ZHOU Wei-jun,YUAN Yong-hua,GUI Yuan-zhen;LIU Hai-tao(Institute of Fluid Physics,CAEP,P.O.Box 919-109,Mianyang 621900,China)

【机构】 中国工程物理研究院流体物理研究所中国工程物理研究院流体物理研究所 四川绵阳621900四川绵阳621900

【摘要】 采用1.06μm单脉冲激光在不同能量密度下辐照特殊光电系统中典型薄膜光学元件,理论分析了激光辐照薄膜元件产生的温度场和热应力场,在此基础上建立了激光辐照多层薄膜的物理模型,计算软件使用ANSYS软件的热分析模块对激光辐照薄膜元件产生的温度场和热应力场进行了模拟,分别给出不同激光能量密度下薄膜表面光斑中心的温度场、径向温度场和轴向温度场分布;同时给出不同能量密度下薄膜的轴向、径向和环向热应力分布。并对激光辐照薄膜元件产生的温度场、热应力场进行了分析,阐明了原因。

【Abstract】 Using 1.06 μm single pulse laser to irradiate optical element model of photoelectricity system in different energy density,physical model of multilayer films is found and temperature field of facula center,radial direction and axes direction is calculated with ANSYS software.At the same time thermal stresses in radial direction,axes direction and round direction in different energy density are calculated.Change of temperature field and thermal stress are analysed.

【关键词】 激光辐照薄膜温度场热应力
【Key words】 Laser irradiatingFilmTemperature fieldThermal stress
【基金】 国家863计划项目资助课题
  • 【文献出处】 强激光与粒子束 ,High Power Laser and Particle Beams , 编辑部邮箱 ,2007年01期
  • 【分类号】O484.5
  • 【被引频次】6
  • 【下载频次】275
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