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栅压对LDMOS在异常大电流下工作的影响

Effects of Gate Voltages on Temperature of LDMOS at High Current

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【作者】 李梅芝陈星弼

【Author】 LI Mei-zhi,CHEN Xing-bi(State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices,Univ.of Sci.and Technol.of China,Chengdu 610054,P.R.China)

【机构】 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 成都610054成都610054

【摘要】 研究LDMOS在一次雪崩击穿后的大电流区,栅压对器件内部温度的影响。结果表明,有源区电流密度、功率密度和温度都随正栅压升高而增加,证明LDMOS在栅接地时比栅不接地时具有更好的静电放电能力。

【Abstract】 Effects of different gate voltages on the temperature of LDMOS at high current after first avalanche breakdown was investigated and physically analyzed.The study shows that the current density and power density increase with gate voltages,causing temperature in the active region to rise.It is demonstrated that gate-grounded LDMOS has better ESD capability than gate-coupled LDMOS.

【关键词】 栅压LDMOS功率密度
【Key words】 Gate voltagesLDMOSSmart power integrated circuitPower density
【基金】 国家自然科学基金资助项目(60476036)
  • 【分类号】TN386.1
  • 【被引频次】1
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