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脉冲激光沉积法制备ITO薄膜及性质研究

Preparation and properties of ITO thin film by pulsed laser deposition

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【作者】 杨亚军李清山刘宪云

【Author】 YANG Ya-Jun,LI Qing-Shan,Liu Xian-Yun(College of Physics and Engineering,Qufu Normal University,Qufu 273165,China)

【机构】 曲阜师范大学物理工程学院曲阜师范大学物理工程学院 山东曲阜273165山东曲阜273165

【摘要】 本文采用脉冲激光沉积法(PLD)制备了ITO导电薄膜,并对其形貌、光学性质和电学性质进行了研究。结果表明,使用PLD方法制备的ITO导电薄膜在可见光区的平均透光率约为80%,方块电阻在100~200Ω/□之间。当衬底温度控制在300℃,氧压控制在1.33Pa时,可以得到具有较高透光率和电导率的ITO导电薄膜。

【Abstract】 ITO films were fabricated by pulsed laser deposition(PLD) method.Structure and optoelectrical properties of the deposited films were investigated.The average optical transmittance was 80% in the visible light range.The sheet resistance was about 100~200Ω/□.ITO films which were deposited by PLD at 300℃ and 1.33Pa of oxygen exhibited high optical transparency and conductivity.

【基金】 山东省自然科学基金资助项目(Y2002A09)
  • 【分类号】O484.4
  • 【被引频次】18
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