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界面掺杂FeMn对CoFe/CrPt交换偏置体系的影响

The influence of interfacial FeMn addition on the CoFe/CrPt exchange biased system

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【作者】 代波蔡健旺赖武彦

【Author】 DAI Bo1,2,CAI Jian-wang2,LAI Wu-yan2 (1.School of Materials Science and Engineering,Southwest University of Science and Technology,Mianyang 621010,China;2.State Key Laboratory of Magnetism,Institute of Physics,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100080,China)

【机构】 西南科技大学材料科学与工程学院中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室 四川绵阳621010北京100086

【摘要】 采用磁控溅射的方法制备了CoFe/CrPt钉扎的交换偏置体系,用外加磁场真空退火以获得钉扎场。通过把反铁磁的FeMn掺入到该钉扎体系中发现,约0.7nm厚度的FeMn掺入在CoFe/CrPt的界面时,可以使体系的钉扎场从原来的5.6×103A/m增加到1.55×104A/m,而体系的Blocking温度仍然可以达到600℃。

【Abstract】 CoFe/CrPt exchange biased system was prepared by magnetron sputtering.In order to appear pinning effect,the films were annealed in a vacuum with applied magnetic field.By introduce antiferromagnetic FeMn into the system,we found that about 0.7nm thickness FeMn into the interface of CoFe/CrPt increase the pinning field from the initial 5.6×103A/m to 1.55×104A/m, and the high Blocking temperature of about 600℃ can also be kept.

【关键词】 交换偏置钉扎场反铁磁
【Key words】 exchange biaspinning fieldantiferromagnetic
【基金】 国家自然科学基金资助项目(50271081);西南科技大学资助项目(053114);
  • 【文献出处】 功能材料 ,Journal of Functional Materials , 编辑部邮箱 ,2007年05期
  • 【分类号】O482.54
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