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浅析影响康普顿谱线位置的因素

An analysis of the factors influencing the Compton line

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【作者】 罗光周上祺肖广渝陈双扣

【Author】 LUO Guang1,2,ZHOU Shang-qi1,XIAO Guang-yu2,CHEN Shuang-kou3(1.College of Material Science and Engineering,Chongqing University,Chongqing 400044,China;2.College of Physics and Information Technology,Chongqing Normal University,Chongqing 400047,China;3.College of Bio-Chemical Engineering,Chongqing Science and Technology College,Chongqing 400017,China)

【机构】 重庆大学材料科学与工程学院重庆师范大学物理学与信息技术学院重庆科技学院生物化学工程学院 重庆400044重庆400047重庆400044重庆400017

【摘要】 康普顿散射中影响康普顿谱线位置的因素是十分复杂的,文章主要针对影响康普顿谱线位置的几个因素作了理论探讨,得出影响因素主要在于:电子具有初速度会增大散射波长的改变量;束缚能的存在要减小峰值波长的改变量;双光子散射和二次散射与谱线峰值位置的关系不大,二者对峰值波长的改变是不确定的、复杂的、在连续的范围内变化的.最后对康普顿谱线位置和康普顿轮廓的理论研究和应用前景作了展望.

【Abstract】 The factors which influence the Compton line in Compton scattering are very complex.Those main factors are discussed,they include: the initial velocity can enlarge the changed wavelength;the bound energy could reduce the changed wavelength;the double Compton scattering and the Compton scattering which produces two photons change the changed wavelength,and the changed wavelength is uncertain,complex and continuous.At last the authors draw a conclusion and make a prospect for the research of the theory and its applications of Compton line and profile.

【基金】 重庆师范大学校级科研资助项目(05XSY002)
  • 【分类号】O571
  • 【被引频次】3
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