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纳米级工艺制程仿真SenTaurus Process的应用

Application of Nano-Level Integrated Process Simulation Tool SenTaurus Process

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【作者】 于英霞; 李惠军; 侯志刚; 张宪敏;

【Author】 YU Ying-xia,LI Hui-jun,HOU Zhi-gang,ZHANG Xian-min (Mengyao Microelectronics R&D Center,Shandong University,Jinan 250100,China)

【机构】 山东大学孟尧微电子研发中心; 山东大学孟尧微电子研发中心 济南250100; 济南250100;

【摘要】 基于Synopsys Inc.最新推出的新一代nm级IC制程工艺设计工具--SenTaurus Process,实现了CMOS架构的nm级NMOS制程的工艺级可制造性设计。仿真结果体现了SenTaurus Process的强大功能和使用SenTaurus Process进行工艺级可制造性设计的必要性。

【Abstract】 Based on the elementary functions of the new generation nano-level IC process design tool:SenTaurus Process issued recently by Synopsys Inc,nano-level NMOS process level DFM based on CMOS framework was realized. Simulated results reveal the powerful functions of SenTaurus Process and the necessity of technology-level design for manufacturing using SenTaurus Process.

  • 【文献出处】 微纳电子技术 ,Micronanoelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,2007年06期
  • 【分类号】TN405
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