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多层金属化系统中的蓄水池效应

Reservoir Effect in Multi-Layer Metal System

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【作者】 李秀宇; 吴月花; 李志国; 郭春生; 刘朋飞; 朱春节;

【Author】 LI Xiu-yu,WU Yue-hua,LI Zhi-guo,GUO Chun-sheng,LIU Peng-fei,ZHU Chun-jie(The College of Electronic Information & Control Engineering,Beijing University of Technology,Beijing 100022,China)

【机构】 北京工业大学电子信息与控制工程学院; 北京工业大学电子信息与控制工程学院 北京100022; 北京100022;

【摘要】 对于W通孔多层金属化系统来说,金属离子蓄水池效应对其电迁移寿命的影响很大。设计了12种不同的蓄水池结构,并进行电迁移实验;考察了蓄水池面积、通孔位置、数目及大小等对互连线的电迁移寿命的影响,得出蓄水池的面积是影响电迁移寿命的主要因素。

【Abstract】 Metal iron reservoirs in multi-layer metal system with W via have great effects on the electro-migration lifetime.12 samples with different reservoir structures were designed for the electro-migration test.The effect of reservoir area,via displace,amount and size on electro-migration lifetime was concluded,and it is revealed that reservoir area is the key factor affecting electro-migration lifetime.

【关键词】 互连线; 蓄水池效应; 电迁移;
【Key words】 interconnects; reservoir effect; electro-migration;
【基金】 电子元器件可靠性物理及应用技术国防科技重点实验室资助项目(51433020305QT0101)
  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,2007年04期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】73
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