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真空管道自体溅射镀TiN膜研究

TiN Coating on Inside Walls of Long Narrow Vacuum Pipes by DC Sputtering

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【作者】 王勇尉伟张耀锋王建平范乐耿会平赵飞云

【Author】 Wang Yong~*,Wei Wei,Zhang Yaofeng,Wang Jianping,Fan Le,Geng Huiping and Zhao Feiyun (National Synchrotron Radiation Laboratory,Hefei 230029,China)

【机构】 国家同步辐射实验室国家同步辐射实验室 合肥230029合肥230029

【摘要】 本文详细介绍了长真空管道内表面直流溅射镀TiN膜技术和成膜系统配置。采用真空管道自体真空镀膜方法解决细长管道内表面镀膜问题,特殊的阴极靶结构设计成功地解决了长管道内表面直流溅射镀膜的问题。本实验方法在真空管道内壁获得了均匀的、高品质的TiN膜层,并实现了细长真空管道大面积镀膜过程的稳定性、重复性和一致性。真空管道自体直流溅射镀膜实验中采用的工作原理以及设备简单,操作方便,成本低廉。

【Abstract】 A novel technique-self-sputtering-has been successfully developed to coat TiN films on inside walls of long narrow vacuum pipes.Discussion focuses on design of geometry of the cathode target in TiN film growth by DC magnetron sputtering.The TiN films,coated on the inside walls of long narrow pipes in different diameters,were found to be fairly uniform,highly stable with strong interfacial adhesion.Many strengths of the new technique were also discussed.

【基金】 国家自然科学基金(No.10245002)
  • 【文献出处】 真空科学与技术学报 ,Chinese Journal of Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,2006年03期
  • 【分类号】O484.1
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】151
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