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Ni+注入BiB3O6晶体光波导的折射率分布

The Refractive Index Profile of the Optical Waveguide Formed by MeV Ni+ Ion Implantation into BiB3O6 Crystal

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【作者】 滕冰陈峰王继扬董胜明王正平

【Author】 TENG Bing~1,CHEN Feng~2,WANG Ji-yang~3,DONG Sheng-ming~3,WANG Zheng-ping~3 (1.Dept.of Physics,Qingdao University,Qingdao 266071,China;2.Dept.of Physics,Shandong University,Jinan 250100,China3.State Key Lab.of Crystal Materials,Shandong University,Jinan 250100,China)

【机构】 青岛大学物理系山东大学物理系山东大学晶体材料国家重点实验室山东大学晶体材料国家重点实验室 山东青岛266071山东济南250100

【摘要】 在室温下,采用BiB3O6晶体,切向沿着(111)晶面方向制成大小为6 mm×8 mm×1.5 mm晶体样品。首次采用能量3.0 MeV、剂量为1×1014ions/cm2的Ni+注入到BiB3O6样品的抛光面,形成平面光波导。注入过程中,样品表面法线方向与入射离子束方向成7°角。采用的氦氖激光器的工作波长为632.8 nm,用棱镜耦合法观察波导的暗模特性,测量每个导模的有效折射率。

【Abstract】 Planar optical waveguide was first formed in BiB3O6 sample by 3.0 MeV Ni+ ion implantation with a dose of 1×1014 ions/cm2 at room temperature.The sample crystal used in this experiment was with a size of(6 mm×)8 mm×1.5 mm and it was cut along (111) plane and optically polished.The sample was tilted by 7° off the beam direction during the ion implantation.A laser beam with 632.8 nm from a He-Ne laser was used in the measurement.The dark modes were observed by prism coupling method.The refractive index profile of the BiB3O6 waveguide was simulated using reflectivity calculation method.

【关键词】 波导离子注入有效折射率
【Key words】 waveguideion implantationrefractive index profile
【基金】 国家自然科学基金资助项目(10304009)
  • 【文献出处】 压电与声光 ,Piezoelectrics & Acoustooptics , 编辑部邮箱 ,2006年04期
  • 【分类号】TN252
  • 【下载频次】55
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