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高速大功率半导体开关RSD的di/dt耐量极限值

The di/dt Limit Values of Hi-Speed and Hi-Power Semiconductor Switch RSD

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【作者】 刘宝生余岳辉梁琳周郁明

【Author】 LIU Bao-sheng,YU Yue-hui,LIANG Lin,ZHOU Yu-ming(Huazhong University of Science & Technology,Wuhan 430074,China)

【机构】 华中科技大学电子科学与技术系华中科技大学电子科学与技术系 湖北武汉430074湖北武汉430074

【摘要】 文章由等离子体双极漂移方程和临界预充电荷条件出发,得出高速大功率半导体开关RSD的di/dt耐量表达式。从外电路和器件结构本身两方面分析了RSD的di/dt耐量的影响因素,并提出了改善di/dt耐量的措施,测试结果证明了理论分析的正确性。

【Abstract】 We get the expression of di/dt bearing of pulsed power semiconductor switch RSD which is based on equation of plasma bipolar drift and the critical condition of stored charge.We analyzed the influence factors of di/dt bearing of RSD from two aspects of outer circuit and devices’ own structure.Some measures which can improve di/dt bearing have been proposed.The testing results proved the theoretical analysis.

【基金】 国家自然科学基金资助项目(50277016)
  • 【文献出处】 通信电源技术 ,Telecom Power Technologies , 编辑部邮箱 ,2006年05期
  • 【分类号】TM564
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】112
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