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多晶Co膜退火前后磁滞标度行为研究

Behavior of Hysteresis Scaling on Thin Polycrystalline Co Film before and after Annealing

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【作者】 贾翠红赖恒郑卫峰

【Author】 JIA Cui-hong,LAI Heng,ZHENG Wei-feng(School of Physics and Optoelectronics Technology,Fujian Normal University,Fuzhou 350007,China)

【机构】 福建师范大学物理与光电信息科技学院福建师范大学物理与光电信息科技学院 福建福州350007福建福州350007

【摘要】 研究了多晶Co薄膜制备态与退火态的磁滞回线与标度行为,结果表明:对易轴方向A∝A0+H(0.67-1.00)Ω0.90,对难轴方向A∝A0+H(1.75-2.50)Ω(1.45-0.95),与理论计算(α=0.95,β=0.28(Heisenberg模型))作比较,A与H的关系符合的较好,A与Ω的指数关系有些差异,这种差异还有待进一步研究。

【Abstract】 The behavior of hysteresis scaling on thin polycrystalline Co film before and after annealing is studied.The results are A∝A0+H(0.67-1.00)Ω0.90for easy direction and A∝A0+H(1.75-2.50)Ω(1.45-0.95) for difficult direction.The consistence between them is found and compared with those from theory calculation((α=0.95,β=0.28(Heisenberg Model)):A and H is well,A and Ω have variety.This variety will be researched in future.

【基金】 福建省教育厅A类基金(JA03180)
  • 【文献出处】 济南大学学报(自然科学版) ,Journal of Jinan University(Science and Technology) , 编辑部邮箱 ,2006年04期
  • 【分类号】TM271
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】37
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