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直流电弧等离子喷射CVD中控制生长(111)晶面占优的金刚石膜

Controlling Fabrication of(111)Crystal Surface Dominating Diamond Film by DC ARC Plasma Jet CVD

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【作者】周祖源；陈广超；戴风伟；兰昊；宋建华；李彬；佟玉梅；李成明；黑立富；唐伟忠；

【Author】 ZHOU Zu-yuan~1,CHEN Guang-chao~1,DAI Feng-wei~1,LAN Hao~1,SONG Jianhua~1,LI Bin~(1,2),TONG Yu-mei~1,LI Cheng-ming~1,HEI Li-fu~1,TANG Wei-zhong~1(1.School of Material Science and Engineering,University of Science and Technology of Beijing,Beijing 100083,China;2.School of Metallurgical and Ecological Engineering,University of Science and Technology of Beijing,Beijing 100083,China)

【机构】北京科技大学材料科学与工程学院；北京科技大学材料科学与工程学院北京100083；北京100083；北京科技大学冶金与生态学院；

【摘要】运用光发射谱(OES)技术对大功率直流电弧等离子喷射CVD金刚石膜的气相沉积环境进行了原位诊断,研究了气相环境中主要含碳基团的浓度及分布与沉积参数的关系,发现了C2基元比其他基元对沉积参数更加敏感。利用光发射谱对C2基元发射强度的监测,实时调控沉积各参数,在大功率直流电弧等离子喷射CVD中实现了(111)晶面占优的金刚石膜的可控生长,I(111)/I(220)XRD衍射峰强度的比值达48。更多还原

【Abstract】 Gas atmosphere was characterized in-situ by optical emission spectra（OES） technique in the high power DC arc plasma jet CVD diamond film system.Density and distribution of the carbon-containing radicals were studied in this kind of depositing environment.The experiments showed that C₂ was more sensitive to the deposition parameters than other radicals.Controlling fabrication of（111）crystal surface dominating diamond films was performed by detecting C₂ with OES technique in high power DC arc plasma jet CVD.XRD intensity ratio of（111） and（220） in the best film arrived at 48.更多还原

【关键词】光发射谱；金刚石膜；直流电弧等离子喷射CVD； (111)占优晶面；
【Key words】 OES； diamond film； DC arc plasma jet CVD； (111) dominating crystal surface；

【基金】国家863计划(No.2002AA305508);国家自然基金(No.50472095);教育部留学回国基金(No.2003-14);北京市科技新星(No.2003A13)资助

【文献出处】人工晶体学报 ,Journal of Synthetic Crystals , 编辑部邮箱 ,2006年03期

【分类号】O484.1
【被引频次】10
【下载频次】219

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