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液相沉积类金刚石膜的沉积机理研究

Study on deposition mechanisn of diamond-like carbon films prepared by liquid-deposition

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【作者】 王红卫沈风雷孙敏闻荻江

【Author】 Wang Hongwei~1,Shen Fenglei,Sun Min~2,Wen Dijiang(1.Material Engineering School,Suzhou University,Suzhou 215021,China;2.Depatment of Civil Engineering,SuzhouUniversity of Science and Technology,Suzhou 215011,China)

【机构】 苏州大学材料工程学院苏州科技学院土木系苏州大学材料工程学院 江苏苏州215021江苏苏州215021

【摘要】 根据电化学的相关理论,提出了钛合金表面液相沉积DLC膜的反应机理,给出了可能电极过程,认为膜是通过甲基阳离子的亲电取代反应而不断生长。讨论了氢原子对金刚石结构的稳定作用,并解释了实验条件对膜结构和性能的影响。

【Abstract】 Deposition mechanism of DLC films prepared by liquid-deposition is suggested according to the theory of electro-chemistry.Electro-chemic equations are listed.The effect of hydrogen on stability of diamond and the influences of deposition condition on properties of DLC films are discussed.

【基金】 江苏省基础研究计划(自然科学基金)资助项目,项目编号:BK2001414
  • 【文献出处】 化学工业与工程技术 ,Journal of Chemical Industry & Engineering , 编辑部邮箱 ,2006年02期
  • 【分类号】O613.71
  • 【被引频次】4
  • 【下载频次】167
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