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电化学脉冲腐蚀制备均匀发光多孔硅  
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【英文篇名】 Preparation of Uniformly Luminescence Porous Silicon by Pulsed Electrochemical Etching Method
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【作者】 朱会丽; 尹延锋; 兰燕娜; 莫育俊;
【英文作者】 ZHU Hui-li; YIN Yan-feng; LAN Yan-na; MO Yu-jun~*(Institute of Optics & Photoelectronic Technology; Henan University; Henan KaiFeng 475001; China);
【作者单位】 河南大学光学与光电子技术研究所; 河南大学光学与光电子技术研究所 河南开封; 河南开封;
【文献出处】 河南大学学报(自然科学版) , Journal of Henan University(Natural Science), 编辑部邮箱 2006年 02期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 多孔硅; 脉冲腐蚀; 荧光; 直流腐蚀; 电镜;
【英文关键词】 Porous Silicon; Pulsed Electrochemical Etching; Photoluminescence; DC Electrochemical Etching;
【摘要】 采用脉冲腐蚀和直流电化学腐蚀两种方法制备多孔硅,对这两种方法制备的多孔硅样品进行了扫描电镜和荧光光谱测量,发现脉冲腐蚀制备的多孔硅样品比直流腐蚀制备的多孔硅样品表面均匀、硅丝或者硅柱的尺寸较小、发光强度大,而且发光峰位有明显.的蓝移现象.同时我们还发现多孔硅样品的尺寸越小其能带越宽,由此得出多孔硅样品的发光现象符合量子限域解释的多孔硅的发光机制.
【英文摘要】 Porous Silicon(PS) was prepared by pulsed and DC electrochemical etching method under the same etching conditions.The scanning electron microscopy(SEM) and the photoluminescence(PL)observation showed that the porous Silicon surface prepared by pulsed etching was more uniform and the Silicon particles were smaller.The intensity of PL was enhanced.At the same time,we observed that the smaller the dimension of the PS,the broader energy gap of the PS.It concluded that the PL of our samples accorded with the mec...
【基金】 国家自然科学基金项目(10274019)
【更新日期】 2006-08-23
【分类号】 O613.72
【正文快照】 硅是最重要的半导体材料,在微电子和光电子器件领域有广泛的应用,但是因为它是间接带隙半导体材料,在室温下硅的禁带宽度为1.11 ev,相应的波长为1.14μm,发光效率比较低,这极大地限制了多孔硅在光电子领域的应用.自从1990年Canham发现用阳极电化学法制备的多孔硅可以发出较强的

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