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808nm半导体激光器腔面硫钝化工艺研究

Study of (NH42S Passivation with Facet of 808 nm Laser Diodes

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【作者】 田增霞崔碧峰徐晨舒雄文张蕾沈光地

【Author】 TIAN Zengxia CUI Bifeng XU Chen SHU Xiongwen ZHANG Lei SHEN Guangdi (Opto-electronic Technology Laboratory,Beijing University of Technology, Beijing,100022,CHN)

【机构】 北京工业大学光电子技术实验室北京工业大学光电子技术实验室 北京100022北京100022

【摘要】 对808 nm大功率半导体激光器腔面硫钝化处理的工艺进行了研究,发现腔面硫钝化可以提高激光器的输出特性以及其可靠性,输出功率提高了16.7%;经过1 500 h老化实验后,硫钝化的半导体激光器没有明显退化,而未处理的激光器退化严重,输出功率降低了36.8%。实验表明,硫钝化时间对激光器钝化效果有很大影响,激光器腔面硫钝化时间过长会造成其损伤,使其可靠性反而下降;硫钝化5 m in效果为最佳。

【Abstract】 A sulfur-passivation technique for facet of 808 nm laser diodes(LD) has been investigated.The treatment of facet of LD can improve the output characteristics and reliability.Output power increases by 16.7%.LD passivated using(NH42S gives no evidence of degradation after 1 500 hours of aging experiment.LD of non-sulfur-passivation severely degrades,its output power decreases by 36.8%.The time of sulfur-passivation produces great difference on the passivation result of LD.The experiment indicates that long time passivation can damage facet causing degradation of LD.5 min sulfur-passivation is best.

【关键词】 半导体激光器腔面硫钝化可靠性
【Key words】 LDfacetsulfur-passivationreliability
【基金】 国家973计划(20000683-02);北京市教委项目(2002kj018);北工大博士启动基金(kz0204200387);国家自然科学基金(60407009);北京自然科学基金(4032007)
  • 【文献出处】 固体电子学研究与进展 ,Research & Progress of SSE Solid State Electronics , 编辑部邮箱 ,2006年02期
  • 【分类号】TN248
  • 【被引频次】17
  • 【下载频次】236
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