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磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析

Growth conditions and structure analysis of nano-Au films prepared by magnetron sputtering

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【作者】 许小亮王烨赵亚丽牟威圩施朝淑

【Author】 XU Xiao-liang~1,2,WANG Ye~1,2,ZHAO Ya-li~1,2,MOU Wei-wei~1,2,SHI Chao-shu~1,2(1.Structure Research Laboratory,University of Science and Technology of China,Hefei 230026,China;2.Department of Physics,University of Science and Technology of China,Hefei 230026,China)

【机构】 中国科学院中国科学技术大学结构分析重点实验室中国科学院中国科学技术大学结构分析重点实验室 安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026

【摘要】 通过直流溅射沉积法在玻璃衬底上制备了不同生长条件下的纳米金薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对其进行表面形貌分析。XRD图显示Au膜具有(111)面择优取向;AFM图显示,在不同的生长阶段Au膜具有不同的表面微结构。总结了不同的工艺条件对薄膜晶粒生长的影响,这项研究对实现金属薄膜的可控性生长有重要意义。

【Abstract】 A series of Au nanometer films were deposited on glass substrates in different condition by magnetron sputtering.The surface morphology of the Au films was observed using the atomic force microscopy(AFM) and the texture was detected by X-ray diffraction(XRD).The favored orientation(111) of the films was certified by XRD patterns.According to the AFM micrographs,microstructure of Au film is different in different courses of film grain growth. To generalize the effect of different preparing conditions on the growth of thin films by date processing,is of great signification to realize the controllable growth of metal films.

【基金】 国家自然科学基金资助项目(50472008);安徽省人才开发基金资助项目(2003Z021);安徽省高新技术基金资助项目(04022001)
  • 【文献出处】 功能材料 ,Journal of Functional Materials , 编辑部邮箱 ,2006年08期
  • 【分类号】O484.1
  • 【被引频次】8
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