节点文献

基区Ge组分分布对SiGe pnp HBT的影响

Influence of Ge in the Base of SiGe pnp HBT

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 李立戴显英朱永刚胡辉勇

【Author】 LI Li,DAI Xian-ying,ZHU Yong-gang,HU Hui-yong(Microelectronics Institute,Xidian University,Xi’an 710071,China)

【机构】 西安电子科技大学微电子学院西安电子科技大学微电子学院 西安70071西安70071

【摘要】 采用SiGe异质结结构提高pnp晶体管的性能,重点研究了Ge组分在基区的三角形分布对晶体管电流增益β和特征频率fT的影响。三角形分布,又分为起点为零和不为零两种情况。同时为了消除集电结处SiGe异质结的价带势垒对空穴输运的影响,Ge组分向集电区延伸进一步提高了晶体管的性能。得到最大电流增益β可达150和特征频率fT可达15 GHz的pnp SiGe HBT,可以广泛地应用到通信、微波和射频领域。

【Abstract】 SiGe heterojunction structure improves the performance of pnp bipolar,and the main points were on the effect of the Ge componant distributing in the shape of triangle in base to the current gain β and f_T.The distributing in the shape of triangle includes zero-beginning and not zero-beginning.Ge extend to collection region,to eliminate the effect of the valence band barrage in collection junction,more improving the performance of the bipolar.The best β and f_T of pnp SiGe HBT are 150 and 15G Hz,and the bipolar can be used in communication,microwave and RF field widely.

【关键词】 SiGepnpHBTGe分布电流增益β特征频率fT
【Key words】 SiGe pnp HBTGe distributingcurrent Gainβf_T
【基金】 国家模拟集成电路重点实验室基金资助(JS09.2.1.DZ01.);国家部委预先研究项目资助(41308060108)
  • 【文献出处】 电子器件 ,Chinese Journal of Electron Devices , 编辑部邮箱 ,2006年03期
  • 【分类号】TN322.8
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】79
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络