节点文献

0.8μm SOI CMOS技术及电路研制

0.8μm SOI CMOS Technology and IC Production

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 孙锋陶建中肖志强洪根深薛忠杰黄嵩人

【Author】 SUN Feng TAO Jian-zhong XIAO Zhi-qiang HONG Gen-shen XUE Zhong-jie HUANG Song-ren (China Electronics Technology Group Corporation No.58 Research Institute.Wuxi 214035,China)

【机构】 中国电子科技集团第五十八研究所中国电子科技集团第五十八研究所 江苏 无锡 214035江苏 无锡 214035

【摘要】 SOI CMOS技术在一些特殊应用领域中有着体硅无法比拟的优势文中叙述采用SIMOX材料和0.8μm SOI CMOS工艺加固技术成功研制出抗辐射性能较好的器件和电路,并且给出了SOI CMOS器件的特性随辐照总剂量的变化关系,试验电路通过了总剂量500 Krad(Si)钴60γ射线辐照实验。

【Abstract】 SOI CMOS technology is used in some special application field,and it has many ascendancy.We are succeed in making good IC what has high anti-radiation capability of using SIMOX and 0.8μm SOI CMOS technics.In last we give a change relation of SOl CMOS IC’s identity with relation dosage.

【关键词】 SOI CMOSSIMOX总剂量效应
【Key words】 SOI CMOSSIMOXdosage domino effect
  • 【文献出处】 电子与封装 ,Electronics & Packaging , 编辑部邮箱 ,2006年08期
  • 【分类号】TN386
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】114
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络