节点文献

基于MBE生长的一种Be掺杂InGaAs基区的新结构InGaP/InGaAs/GaAs DHBT

A Novel InGaP/InGaAs/GaAs DHBT Grown by MBE Using Beryllium as p-Type Dopant

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 苏树兵; 徐安怀; 刘新宇; 齐鸣; 刘训春; 王润梅;

【Author】 Su Shubing 1,,Xu Anhuai2,Liu Xinyu1,Qi Ming2,Liu Xunchun1,and Wang Runmei1(1 Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China) (2 Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 200050,China)

【机构】 中国科学院微电子研究所; 中国科学院上海微系统与信息技术研究所; 中国科学院微电子研究所 北京100029; 上海200050; 北京100029;

【摘要】 报道了一种以InGaAs为基区的新结构InGaP/InGaAs/GaAs双异质结晶体管,获得了直流性能良好的器件.其共射直流增益β达到100,残余电压Voffset约为0.4V,膝点电压Vknee约为1V,击穿电压BVceo超过10V,器件的基极和集电极电流理想因子分别为nb=1.16,nc=1.11,可应用于低功耗、高功率领域.

【Abstract】 We fabricate a novel InGaP/InGaAs/GaAs double hetero-junction bipolar junction (DHBT) with an InGaAs base for the first time in China. Good DC performance is obtained.The common-emitter DC current gain is 100,the offset voltage approximates 0.4V,the knee voltage is about 1.0V,and the open-base breakdown voltage is over 10V.The ideality factors for the base and collector current are 1.16 and 1.11 respectively.These results indicate that the InGaP/InGaAs/GaAs DHBTs are suitable for applications in low power-dissipation and high power.

【基金】 国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000068304,2002CB311902);中国科学院重点创新(批准号:KGCX2SW107)资助项目~~
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2006年06期
  • 【分类号】TN322.8
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】94
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络