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f_T为77GHz的蓝宝石衬底0.25μm栅长AlGaN/GaN高电子迁移率功率器件(英文)

0.25μm Gate-Length AlGaN/GaN Power HEMTs on Sapphire with f_T of 77GHz

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【作者】 郑英奎; 刘果果; 和致经; 刘新宇; 吴德馨;

【Author】 Zheng Yingkui,Liu Guoguo,He Zhijing,Liu Xinyu,and Wu Dexin(Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China)

【机构】 中国科学院微电子研究所; 中国科学院微电子研究所 北京100029; 北京100029;

【摘要】 在蓝宝石衬底上用MOCVD技术生长的AlGaN/GaN结构上制作出0.25μm栅长的高电子迁移率功率晶体管.0.25μm栅长的单指器件测到峰值跨导为250mS/mm,特征频率为77GHz.功率器件的最大电流密度达到1.07A/mm.8GHz频率下在片测试80×10μm栅宽器件的输出功率为27.04dBm,同时功率附加效率达到26.5%.

【Abstract】 MOCVD-grown 0.25μm gate-length AlGaN/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) are fabricated on sapphire substrates.A peak extrinsic transconductance of 250mS/mm and a unity current gain cutoff frequency (f_T) of 77GHz are obtained for a 0.25μm gate-length single finger device.These power devices exhibit a maximum drain current density as high as 1.07A/mm.On-chip testing yielded a continuous-wave output power of 27.04dBm at 8GHz with an associated power-added efficiency of 26.5% for an 80×10μm device.

【关键词】 GaN; 蓝宝石; HEMT;
【Key words】 GaN; sapphire substrate; high electron mobility transistor;
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2006年06期
  • 【分类号】TN323.4
  • 【被引频次】7
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