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外延GaN基薄膜表面晶体结构RHEED图像研究

Study of Surface Lattice Transform of Epitaxial GaN-Based Films by Using RHEED

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【作者】 郎佳红; 秦福文; 顾彪;

【Author】 LANG Jia-hong1,QIN Fu-wen2,GU Biao2 (1.School of Electrical Engineering & Information , Anhui University of Technology Maanshan 243002, China; 2.Department of Electrical Engineering and Applied Electronics, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)

【机构】 安徽工业大学电气信息学院; 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室; 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 安徽马鞍山243002; 辽宁大连116024.;

【摘要】 论述了反射高能电子衍射(RHEED)作为外延薄膜进行原位监测的一个重要手段以及RHEED图像与外延薄膜的表面形貌的关系,提出了以RHEED图像分析外延GaN基薄膜晶格结构的演变情况,并从衬底α-Al2O3的等离子体清洗、氮化进行了具体的分析和演算。结论指出,RHEED不仅是进行外延薄膜原位监测,而且还可以作为分析外延薄膜晶体结构演变的一个有力手段。

【Abstract】 Based on the relation to images of RHEED for situ monitoring growth of GaN-based epitaxy film and surface feature of epitaxy film, the transformation of the crystal lattice of growing surface of epitaxy film from RHEED images in different processes, such as hydrogen-nitrogen plasma cleaning and nitridation of sapphire substrate was given. The result indicated that RHEED was ad- vance for monitoring the growth of epitaxy film in situ, but also was a strongly tool for analyzing the crystal lattice transformation of epitaxy film.

【关键词】 蓝宝石; 清洗; 氮化; 反射高能电子衍射;
【Key words】 sapphire; cleaning; nitridation; RHEED;
【基金】 安徽省教育厅青年教师资助项目(2005jq1073)
  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,2006年08期
  • 【分类号】TN304.05
  • 【被引频次】4
  • 【下载频次】231
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