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纳米压印技术的工艺和图形精度研究

Process and Pattern Precision in Nano-imprinting Lithography

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【作者】 司卫华董晓文顾文琪

【Author】 SI Wei-hua~(1,2),DONG Xiao-wen~(1,2),GU Wen-qi~1(1.Institute of Electrical Engineering,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100080,CHN;2.Graduate School of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100039,CHN)

【机构】 中国科学院电工研究所中国科学院电工研究所 北京100080中国科学院研究生院北京100039北京100080

【摘要】 纳米压印技术通过压印实现了纳米结构的图形转移,具有分辨率高、效率高、成本低的优点。通过对纳米压印过程中影响图形精度的一些因素进行分析,提出了相应的解决方法。结合研制的NIL-01型压印机进行工艺实验,给出纳米压印工艺实验的结果,并对结果进行了分析。试验表明:考虑到影响压印图形精度的各种因素,采用镀有Cr的SiO2模版和NIL-01型压印机,用热压印技术可以压印出具有100 nm特征尺寸的PMMA图形。

【Abstract】 By pressing,nano-imprinting lithography technology to complete the pattern transfer of nano-structure is characterized by high resolution,high efficiency and low cost.By analyzing some factors influencing the pattern precision in nano-imprinting,corresponding measures have been proposed.Experiment has been carried out using self-made NIL01 nano-imprinting equipment.Experimental results show that,in considering a variety of factors influencing pattern precision,PMMA pattern with feature size of 100nm can be got in hot embossing through SiO2 mask coated with Cr and NIL-01 nano-imprint equipment.

【关键词】 纳米压印压印图形图形精度模版
【Key words】 nano-imprintingpatternpattern precisionmask
  • 【文献出处】 半导体光电 ,Semiconductor Optoelectronics , 编辑部邮箱 ,2006年04期
  • 【分类号】TN305.7
  • 【被引频次】6
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