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共溅射CdTe掺Nd薄膜的结构和电导性能

Structural and Conductive Properties of Nd-doped CdTe Thin Films Obtained by Co-sputtering

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【Author】 ZHENG Yu feneg 1, CHENG Shu yi 1, LI Jin 1, JIAN Ji kang 1, LI Dong lai 1, MA Zhong quan 1, CHANG Ai ming 2 (1.Department of Physics, Xinjiang University, Urumqi, Xinjiang 830046, China; 2. Institute of Physics, Xinjiang CAS, 830000)

【机构】新疆大学物理系；中国科学院新疆物理所新疆乌鲁木齐830046；新疆乌鲁木齐830046；新疆乌鲁木齐830000；

【摘要】采用共溅射法在 ITo/玻璃基片上沉积 Cd Te掺 Nd薄膜 ,并利用 XRD和阻抗测试研究薄膜的结构和电导性能 .结果表明 ,适当 Nd掺入可以改善 Cd Te薄膜结晶特征和电导性能更多还原

【Abstract】 Nd doped CdTe thin films have been fabricated on ITO/glass substrate by using Co sputtering deposition. The structural and conductive properties of films have been investigated by X ray diffraction (XRD) and impedance measurements. The results show that proper doping of Nd can improve crystallinity and conductivity of CdTe films.更多还原

【关键词】共溅射； CdTe薄膜；电导；晶界电阻；
【Key words】 co sputtering； CdTe thin films； conductivity； resistance of boundary；

【基金】国家自然科学基金资助项目 (5 9862 0 0 2 )

【文献出处】新疆大学学报(自然科学版) ,Journal of Xingjiang University(Natural Science Editron) , 编辑部邮箱 ,2002年01期

【分类号】O484
【被引频次】9
【下载频次】62

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