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缩小投影电子束曝光系统的成像反差

Image Contrast of Projection Electron-beam Lithography with Demagnification Imaging(PELDI)

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【Author】 PENG Kai wu, GU Wen qi, ZHANG Fu an ,WU Gui jun (Institute of Electrical Engineering,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100080,China)

【机构】中科院电工所；中科院电工所北京100080；北京100080；北京100080；

【摘要】结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差 ,详细讨论了照明束与角度限制光阑处于非理想情况时对成像反差的影响及理想条件的调试方法更多还原

【Abstract】 The optimal image contrast which can be got when the illumination beam and the angular limitation aperture are in ideal conditions is presented with their woking principles.In the nonideal conditions their influence on the image contrast and the debug method for the ideal conditions are discussed in detail.更多还原

【关键词】缩小投影电子束曝光；照明束；角度限制光阑；反差；
【Key words】 PELDI； illumination beam； angular limitation aperture； contrast；

【文献出处】微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,2002年03期

【分类号】TN305.7
【下载频次】27

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