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金属β-二酮化合物用于MOCVD法生长铁电氧化物薄膜

Metal β-Diketonates Used as Precursors for Ferroelectric Oxide Thin Films

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【作者】 许效红侯云王民王弘周爱秋

【Author】 Xu Xiaohong Hou Yun Wang Min Wang Hong(State Key Lab of Crystal Materials, Shandong University, Jinan 250100, China) Zhou Aiqiu(College of Chemistry and Environment Science, Shandong University, Jinan 250100, China)

【机构】 山东大学晶体材料国家重点实验室山东大学化学与环境科学学院 济南250100济南250100济南250100

【摘要】 对用于 MOCVD法生长铁电氧化物薄膜的金属 β-二酮化合物的制备、结构及性质进行了评述 ,对它们在生长铁电薄膜中的应用现状进行了介绍 ,并对它们的应用前景作了展望。

【Abstract】 The preparation of volatile metal β-diketonates used as precursors for deposition of the ferroelectric oxide thin films is reviewed. The structures and properties of them are presented and discussed. The use of them in metal organic vapor deposition of ferroelectric oxide thin films is also discussed.

【基金】 国家“8 6 3”新材料领域基金;山东大学晶体材料国家重点实验室开放课题资助
  • 【文献出处】 化学进展 ,Progress In Chemistry , 编辑部邮箱 ,2002年01期
  • 【分类号】O627
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】102
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