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等离子体表面技术的研究与应用

Research and Applications on Plasma Surface Techniques

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【作者】 毛国强卫中山

【Author】 Mao Guoqiang1, Wei Zhongshan2(1.Zhengzhou Institute of Tobacco, Zhengzhou 4500002.Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016)

【机构】 郑州烟草研究院机电工程部南京航空航天大学机电学院 郑州450000南京210016

【摘要】 概述了离子注入、离子束沉积、等离子喷涂、离子镀、等离子体增强化学气相沉积、等离子体化学热处理和双层辉光离子渗金属等等离子体表面技术的基本原理和最新进展,并给出了部分典型实例。

【Abstract】 The essential principle, the latest development and some typical ap plications of plasma surface technology are discussed, such as ion implantation, ion beam deposition, plasma arc sputtering, ion plating, plasma enhanced chemi cal vapor deposition, plasma chemical heat treatment and double glow surface all oying some typical examples are given.

【关键词】 等离子体表面技术
【Key words】 plasmasurface technology
  • 【文献出处】 航空精密制造技术 ,Aviation Precision Manufacturing Technology , 编辑部邮箱 ,2002年04期
  • 【分类号】TG174.4
  • 【被引频次】25
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