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室温下用脉冲激光沉积E-BN薄膜

PULSED LASER DEPOSITION OF EXPLOSION BORON NITRIDE AT AMBIENT TEMPERATURE

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【作者】 任志昂张灿云钟向丽王金斌杨国伟

【Author】 REN Zhi-ang,ZHANG Can-yun,ZHONG Xiang-li, WANG Jin-bin,YANG Guo-wei (Department of Physics,Xiangtan University,Xiangtan 411105,China)

【机构】 湘潭大学物理系湘潭大学物理系 湖南湘潭411105湖南湘潭411105湖南湘潭411105

【摘要】 在利用等离子体增强脉冲激光沉积系统沉积立方氮化硼 (cBN)薄膜时 ,发现了氮化硼 (BN)材料的E BN相 ,并利用扫描电镜和红外吸收光谱及X射线衍射技术对薄膜样品进行了分析 ,得到了制备较高质量E BN薄膜的一些热力学参数及时间参数 ,验证了现有的E BN结构的形成理论。

【Abstract】 In this study,explosion boron nitride (E-BN) was found in the process of depositing cubic boron nitride (cBN) thin film by Plasma Enhanced Pulsed Laser Deposition (PEPLD) method at room temperature.The E-BN thin film was identified using SEM,FTIR and X-ray diffraction techniques.The thermodynamic parameters and time parameter for preparing high-quality E-BN thin film were obtained. This has supported the existing formation theory of the structure of E-BN.

【基金】 湖南省教育厅资助 (0 1C0 6 1)
  • 【文献出处】 高压物理学报 ,Chinese Journal of High Pressure Physics , 编辑部邮箱 ,2002年04期
  • 【分类号】O484.1
  • 【被引频次】5
  • 【下载频次】90
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