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响应表面法在工艺综合中的应用

Using Response Surface Method for Process Synthesis

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【作者】 鲁勇; 张文俊; 杨之廉;

【Author】 Lu Yong,Zhang Wenjun and Yang Zhilian(Institute of Microelectronics,Tsinghua University,Beijing 100084,China)

【机构】 清华大学微电子学研究所; 清华大学微电子学研究所 北京100084; 北京100084; 北京100084;

【摘要】 通过实例 ,介绍多分区响应表面法的优点及其给工艺综合带来的好处 ,并用其构建的响应表面模型分析工艺窗口带来的影响 .

【Abstract】 To take place the process and device simulator,a new RSM,named multi-region RSM,is developed,which integrated into the MOSPAD system.The advantage of MR-RSM is presented,and the analysis of process window is also based on the MR-RSM.

  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2002年10期
  • 【分类号】TN405
  • 【被引频次】10
  • 【下载频次】115
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