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GaN/GaAs(001)与GaN/Al2O3(0001)外延层光辅助湿法腐蚀行为的比较

Comparative Study on Photoasissted Wet Etching Behavior of GaN/GaAs(001) and GaN/Al2O3(0001)Epilayers

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【作者】 沈晓明; 张秀兰; 孙元平; 赵德刚; 冯淦; 张宝顺; 张泽洪; 冯志宏; 杨辉;

【Author】 Shen Xiaoming 1,3 ,Zhang Xiulan 2,Sun Yuanping 1,Zhao Degang 1,Feng Gan 1, Zhang Baoshun 1,Zhang Zehong 1,Feng Zhihong 1 and Yang Hui 1(1 State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics,Institute of Semiconductors, The Chinese Academy of Sc

【机构】 中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点实验室; 中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室; 中国科学院半导体研究所集;

【摘要】 研究了用金属有机物气相外延 (MOVPE)方法在 Ga As(0 0 1)衬底上生长的立方相 Ga N(c- Ga N)外延层的光辅助湿法腐蚀特性 ,并和生长在蓝宝石 (0 0 0 1)衬底上的六方相 Ga N (h- Ga N)外延层的光辅助湿法腐蚀特性进行了比较 .实验发现 c- Ga N膜的暗态电流和光电流的变化不同于 h- Ga N膜的腐蚀电流的变化规律 .对引起上述差异的原因进行了简单的讨论 .

【Abstract】 Photoassisted wet chemical etching of cubic GaN (c-GaN) on GaAs(001) epilayers grown by metalorganic vapor phase epitaxy (MOVPE) is investigated.Compared with the etching of hexagonal GaN (h-GaN) grown on Al2O3(0001),it is found that the photoassisted wet etching behavior of c-GaN grown on GaAs is different from that of h-GaN on sapphire.The possible reason causing the difference is discussed.

【关键词】 立方GaN; MOVPE; 光辅助湿法腐蚀;
【Key words】 cubic-GaN; MOVPE; photoassisted wet etching;
【基金】 国家自然科学基金 (批准号 :6 982 5 10 7) ;NSFC-RGC联合基金 (批准号 :5 0 0 116 195 3,N-HKU0 2 8/0 0 )资助项目~~
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2002年08期
  • 【分类号】TN305
  • 【下载频次】128
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