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一种采用带-带隧穿热电子注入编程的新型快闪存贮器(英文)

A Novel Flash Memory Using Band-to-Band Tunneling Induced Hot Electron Injection to Program

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【作者】 潘立阳朱钧刘志宏曾莹鲁勇

【Author】 Pan Liyang,Zhu Jun,Liu Zhihong,Zeng Ying and Lu Yong(Institute of Microelectronics,Tsinghua University,Beijing 100084,China)

【机构】 清华大学微电子学研究所清华大学微电子学研究所 北京100084北京100084北京100084

【摘要】 提出一种采用带 带隧穿热电子注入编程的新型快闪存贮器结构 ,在便携式低功耗的code闪存中有着广泛的应用前景 .该结构采用带 带隧穿热电子注入 (BBHE)进行“写”编程 ,采用源极Fowler Nordheim隧穿机制进行擦除 .研究显示控制栅编程电压为 8V ,漏极漏电流只有 3μA/ μm左右 ,注入系数为 4× 10 -4 ,编程速度可达 16 μs,0 8μm存贮管的读电流可达 6 0 μA/ μm .该新型结构具有高编程速度、低编程电压、低功耗、大读电流和高访问速度等优点 .

【Abstract】 A novel band to band hot electron programming flash memory device,which features programming with high speed,low voltage,low power consumption,large read current and short access time,is proposed.The new memory cell is programmed by band to band tunneling induced hot electron (BBHE) injection method at the drain,and erased by Fowler Nordheim tunneling through the source region.The work shows that the programming control gate voltage can be reduced to 8V,and the drain leakage current is only 3μA/μm.Under the proposed operating conditions,the program efficiency and the read current rise up to 4×10 -4 and 60μA/μm,respectively,and the program time can be as short as 16μs

【基金】 国家九五计划资助项目 (No.97 76 0 0 1 0 1)~~
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2002年07期
  • 【分类号】TP333
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】71
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