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衬底温度对纳米晶SnO2薄膜结晶特性的影响
Influence of substrate temperature of nanocrystalline SnO2 thin films
【摘要】 阐述了金属氧化物SnO2纳米薄膜研究的发展情况及其应用前景,介绍了采用磁控溅射技术,使用混合气体Ar和O2,在衬底温度为150～400℃的耐热玻璃基片上制备了纳米晶SnO2∶Sb透明导电薄膜。通过测定x射线衍射谱,表明薄膜择优取向为[110]和[211]方向,SnO2∶Sb薄膜的结晶特性随衬底温度变化。
【Abstract】 Nanocrystalline transparent conducting thin films is made by the method of the direct current magnetron sputtering in a mixture gas of Ar and O 2 ,and substrate temperature150～400℃.The films showed preferred orientation inandplane by x-ray diffraction.The crystalline properties of nanocrystalline SnO 2 ∶Sb thin films depends on the substrate temperature is discussed.
【关键词】 磁控溅射；
纳米晶；
SnO2薄膜；
结晶特性；
FE-SEM；
【Key words】 magnetron sputtering； nanocrystalline SnO 2 thin films； crystalline properties； FE-SEM；
【Key words】 magnetron sputtering； nanocrystalline SnO 2 thin films； crystalline properties； FE-SEM；
- 【文献出处】 微纳电子技术 ,Semiconductor Information , 编辑部邮箱 ,2002年04期
- 【分类号】TN304.055
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