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衬底温度对纳米晶SnO2薄膜结晶特性的影响

Influence of substrate temperature of nanocrystalline SnO2 thin films

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【作者】 王占和蒋耘晨祝侃

【Author】 WANG Zhan-he,JIANG Yun-chen,ZHU Kan (Department of Electronics Engineering,Beijing Institute of Technology,Beijing100081,China)

【机构】 北京理工大学电子工程系北京理工大学电子工程系 北京100081北京100081北京100081

【摘要】 阐述了金属氧化物SnO2纳米薄膜研究的发展情况及其应用前景,介绍了采用磁控溅射技术,使用混合气体Ar和O2,在衬底温度为150~400℃的耐热玻璃基片上制备了纳米晶SnO2∶Sb透明导电薄膜。通过测定x射线衍射谱,表明薄膜择优取向为[110]和[211]方向,SnO2∶Sb薄膜的结晶特性随衬底温度变化。

【Abstract】 Nanocrystalline transparent conducting thin films is made by the method of the direct current magnetron sputtering in a mixture gas of Ar and O 2 ,and substrate temperature150~400℃.The films showed preferred orientation inandplane by x-ray diffraction.The crystalline properties of nanocrystalline SnO 2 ∶Sb thin films depends on the substrate temperature is discussed.

  • 【文献出处】 微纳电子技术 ,Semiconductor Information , 编辑部邮箱 ,2002年04期
  • 【分类号】TN304.055
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