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KTN薄膜脉冲激光沉积过程的机理研究

STUDY ON THE MECHANISM OF THE DEPOSITON PROCESS OF KTN THIN FILM BY PULSED LASER

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【作者】 李智华张端明陈中军黄明涛关丽钟志成李国栋

【Author】 LI ZHI HUA ZHANG DUAN MING CHEN ZHONG JUN HUANG MING TAO GUAN LI (Department of Physics, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ZHONG ZHI CHENG LI GUO DONG (Department of Physics, Xiangfang College, Xiangfang 441

【机构】 华中科技大学(主校区)物理系!武汉430074襄樊学院物理系!襄樊441053

【摘要】 根据能量平衡原理 ,导出了脉冲激光作用靶材的烧蚀率公式 ,并根据流体动力学理论 ,得出了脉冲激光产生的等离子体的空间运动特性方程 ,将靶材烧蚀率公式与等离子体空间动力学方程结合起来 ,根据实验研究了不同激光功率密度和波长对KTa0 6 5Nb0 .35O3(KTN)薄膜沉积特性的影响 ,得到了一些有价值的结果 ,并对结果进行了详细的讨论 ,理论计算结果与实验大体符合 .

【Abstract】 According to energy balance consideration, the ablation ratio formula of target irradiated by pulsed laser is derived, and the spatial\|characteristic equations of plasma generated by pulsed laser are obtained by using fluid dynamic theory. Combining the ablation ratio formula with the spatial\|characteristic equations of plasma, the effects of different laser power density and wavelength on the deposition characteristics of Kta 0.65 Nb 0.35 O 3(KTN) thin film are studied on the basis of our experiments. And many valuable results are obtained which have been discussed in detail. The calculated results are in agreement with experiments on the whole.

【关键词】 PLD技术烧蚀率等离子体KTN薄膜
【Key words】 PLD technologyablation ratioplasmaKTN thin film
【基金】 华中理工大学激光技术国家重点实验室;湖北省教育厅重大科研项目 (批准号 :2 0 0 0B5 0 0 2 )资助的课题~~
  • 【文献出处】 物理学报 ,Acta Physica Sinica , 编辑部邮箱 ,2001年10期
  • 【分类号】O484
  • 【被引频次】29
  • 【下载频次】158
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