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工业硅炉中铜瓦位置的优化
OPTIMIZATION OF THE COPPER SHOE SITE IN INDUSTRIAL GRADE SILICON FURNACE
【摘要】 采用石墨电极的工业硅炉，对铜瓦位置的设定，不宜套用自焙电极的模式，其合理位 置为：矮烟罩炉H=2．3～2.5m，或H=0.8～1m，敞口炉H=1m。
【Abstract】 It is unsuited to apply the mode of self baking electrode for determ ining the copper shoe site in industrial silicon furnace with graphite electrod e.The rational site for low hood furnace is H=2．3～2．5m，or H=0．8～1m，for o pened furnace is H=1m。
【关键词】 工业硅；
铜瓦位置；
优化；
石墨电极；
自焙电极；
功率；
【Key words】 industrial grade silicon； copper shoe； site； optimization； graphite elec trode；
【Key words】 industrial grade silicon； copper shoe； site； optimization； graphite elec trode；
- 【文献出处】 铁合金 ,Ferro-alloys , 编辑部邮箱 ,2001年02期
- 【分类号】TF33
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