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硬质薄膜耐磨性的凹坑磨损法

Dimple-Grinding Method to Evaluate Hard Films’ Antiwear Properties

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【作者】 虞晓江李戈扬吴桢干竺品芳

【Author】 YU Xiao jiang, LI Ge yang, WU Zhen gan, ZHU Pin fang (State Key Lab of MMC, Shanghai Jiaotong Univ., Shanghai 200030, China)

【机构】 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海200030

【摘要】 薄膜镀层由于厚度小 ,难以用通常的磨损方法评估其耐磨性。本文研究了采用精密凹坑研磨仪评价薄膜镀层耐磨性的方法 ,并对 Ta N/ Nb N纳米多层膜和 Ta N、Nb N单层膜进行了磨损实验。结果表明 ,精密凹坑研磨仪是一种适用于评价薄膜镀层耐磨性的方法。Ta N/ Nb N纳米多层膜有比 Ta N、Tb N单层膜更高的耐磨性

【Abstract】 The antiwear properties of thin film coatings are difficult to be evaluated by ordinary method because the coatings are too thin in thickness. A precise dimple grinding method was introduced and discussed and the antiwear properties of TaN/NbN nano multilayer film, TaN and NbN single layer films were evaluated by this new method. The results show that the precise dimple grinding method is a proper method to evaluate the antiwear properties of thin film coatings. TaN/NbN nano multilayer film shows a better antiwear property than TaN and NbN single layers.

【基金】 金属基复合材料国家重点实验室开放基金项目
  • 【文献出处】 实验室研究与探索 ,Laboratory Research and Exploration , 编辑部邮箱 ,2001年01期
  • 【分类号】O484
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】76
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