节点文献

光亮剂EN-96在化学镀溶液中行为的研究

A STUDY ON BEHAVIOR OF BRIGHTER EN-96 IN ELECTROLESS PLATING BATH

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 常立民林险峰

【Author】 CHANG Li_min,LIN Xiang_feng (Testing Centre, Siping Normal College,Siping 136000,China)

【机构】 四平师范学院分析测试中心四平师范学院分析测试中心 吉林四平136000吉林四平136000

【摘要】 本文通过电化学方法探讨了光亮剂EN -96对化学镀镍液的影响 .局部阳极和局部阴极极化曲线说明 ,EN -96的加入对H2 PO- 2 的氧化反应和Ni2 + 的还原反应都有抑制作用 .这与实际中获得EN -96对化学镀溶液具有抑制作用的结果相吻合

【Abstract】 The effects of EN-96 on the bath of electroless niokel are investigated by electrochemical method in this paper.The partial anodic ploarization curves and the cathodic ploarization curves show that the exidation of hypophosphitc ion and the nickel deposition are both restrained with the addition of EN-96.These results are in good agreement with deposition rate obtained in eletroless nickel plating.

【关键词】 光亮剂化学镀镀液行为
【Key words】 brightereletrolessbath behavior
【基金】 四平市科委资助项目
  • 【文献出处】 松辽学刊(自然科学版) ,Songliao Journal (Natnral Science Edition) , 编辑部邮箱 ,2001年04期
  • 【分类号】TQ153
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】87
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络