节点文献

NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力

推荐 CAJ下载
PDF下载
不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【机构】上海交通大学国家教育部高温材料及高温测试重点实验室!上海200030；上海交?；

【摘要】采用 X射线掠射法和轮廓法 ,测量了单晶 Si基板上用磁控溅射法制备的 Ni Ti形状记忆合金薄膜的残余应力 ,分析了其与薄膜厚度以及晶化处理温度等工艺条件的关系 .结果表明 :该薄膜中的残余应力主要来源于薄膜同基板材料的膨胀系数和晶格参数不匹配 ;薄膜厚度越大 ,残余应力越小 ;晶化处理温度对因热胀系数差异带来的热拉应力因马氏体相变而致的相变压应力均有不同程度的影响 .更多还原

【关键词】形状记忆合金； NiTi；残余应力；马氏体相变；晶化处理；基板材料；磁控溅射法；热拉；晶格参数；工艺条件；

【文献出处】上海交通大学学报 ,Journal of Shanghai Jiaotong University , 编辑部邮箱 ,2001年02期

【分类号】TG139
【被引频次】2
【下载频次】152

知网节下载

节点文献中：

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络

节点文献